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常温BF膜 - YMBF3086
YMBF3086室温储存热固化绝缘层积膜主要用于 IC封装基板中的绝缘层与构建层,提供电气绝缘性能,支持激光打微孔,作为导体图形之间的介电隔离层,具备良好的热稳定性和尺寸稳定性。
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产品优势
01
可常温储存,无需冰冻-回温等操作
02
较高的Tg点(Tg(TMA)>150℃,Tg(DMA)>170℃),保证了IC在工作温度范围内的尺寸稳定性
03
热膨胀系数低,保证了通孔连接结构在热循环测试(25℃ -125℃,1000 cycles)中不会发生断裂
产品介绍

YMBF3086室温储存热化绝缘层积膜主要用于 IC封装基板中的绝缘层与构建层,提供电气绝缘性能,支持激光打微孔,作为导体图形之间的介电隔离层,具备良好的热稳定性和尺寸稳定性。

技术参数

型号

厚度(μm

CTE

25-150℃tensile TMA

Dk

(1MHz/1GHz)

Df 

(1MHz/1GHz)

适用场景

YMBF3086

10.0-100.0

60

3.8/3.4

0.017/0.023

半导体载板

注:以上检测数据是实验室环境测得的典型数据,仅供客户使用时参考

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